先進光刻機主要有兩種,一種是EUV光刻機,主要用于生產制造7nm以下芯片;一種是2000i及后續型號的DUV光刻機,其是EUV光刻機的過渡產品。
2000i等型號的DUV光刻機,也可以將用于7nm/5nm芯片,台積電就用其量產了第一代7nm芯片,并確定其可以制造5nm,只是工藝更復雜,成本高一些。
美一直都想限制ASML出貨先進光刻機,通過瓦森納協定限制了EUV光刻機。
隨后多次修改規則,并對ASML進行游說,甚至還簽訂了三方協議,就是想限制2000i等DUV光刻機。
三方協議簽訂后,荷蘭宣布將配合美進行相關半導體出口管制,結果ASML卻稱中國市場至關重要,將會加速向國內出貨。
三方協議內容流出后,ASML第二三季度向國內出貨的光刻機數量明顯增加,第一季度占比僅為8%,結果第二三季度分別是24%、46%。
根據ASML發布的財報可知,今年前三個季度就向國內出貨了52億歐元的光刻機,大約是80台。
華為Mate60Pro開售后,ASML又直接宣布,向荷蘭政府遞交的申請獲得了批準,將繼續向國內出貨2000i等型號的光刻機。
關鍵是,ASML公開表示,預計今年向國內出貨的光刻機總額,將會占全球營收的20%;對2024年的中國業務持樂觀態度。
ASML還決定向美澄清出口規則,目前仍將繼續向國內出貨2000i等型號的光刻機。
對于ASML這一系列動作,就有外媒稱ASML就先進光刻機攤牌了。當然,攤牌也是因為無奈。
首先,ASML營收主要來自光刻機銷售,EUV光刻機和DUV光刻機平分秋色,結果先進工藝產能突然過剩,導致EUV光刻機需求下滑。
消息稱,英特爾台積電等都砍掉了部分光刻機訂單,台積電更是要求廠商延遲交付相關設備。
ASML也承認新增光刻機訂單數量,同比下滑超40%,所以ASML只能出貨更多DUV光刻機。
中國是全球最大的芯片消費市場,又最大的新能源汽車產銷國,越來越多的芯片又將在國內生產制造。
ASML都表示,目前向國內出貨的光刻機數量,僅滿足國內市場需求的50%,可想國內需求有多大。
其次,ASML的光刻機雖然先進,并非不可超越,ASML也承認物理定律是相同的,中國廠商通過努力研發,是能夠打造先進光刻機的。
麒麟9000s芯片商用,證明國內產業鏈已經打造出來了先進的光刻機,華為徐直軍還呼吁國內廠商更多采用國產芯片等設備。
日本廠商還研發出來5nm壓印機,通過NIL工藝將芯片制程縮小至5nm。
關鍵是,越來越多的芯片新技術出現,像堆疊技術芯片、光電芯片、量子芯片等,這些都將會逐漸替換傳統的硅芯片。
更何況,ASML已經遇到了技術瓶頸,光刻機技術幾乎停滯不前了,荷蘭都宣布投資11億歐元進入光電芯片領域。
在這樣的情況下,ASML只能加速出貨,否則,其將會失去更多市場,更快的被其它技術所替代。
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