先進光刻機主要有兩種，一種是EUV光刻機，主要用于生產制造7nm以下芯片；一種是2000i及后續型號的DUV光刻機，其是EUV光刻機的過渡產品。

2000i等型號的DUV光刻機，也可以將用于7nm/5nm芯片，台積電就用其量產了第一代7nm芯片，并確定其可以制造5nm，只是工藝更復雜，成本高一些。

美一直都想限制ASML出貨先進光刻機，通過瓦森納協定限制了EUV光刻機。

隨后多次修改規則，并對ASML進行游說，甚至還簽訂了三方協議，就是想限制2000i等DUV光刻機。

三方協議簽訂后，荷蘭宣布將配合美進行相關半導體出口管制，結果ASML卻稱中國市場至關重要，將會加速向國內出貨。

三方協議內容流出后，ASML第二三季度向國內出貨的光刻機數量明顯增加，第一季度占比僅為8%，結果第二三季度分別是24%、46%。

根據ASML發布的財報可知，今年前三個季度就向國內出貨了52億歐元的光刻機，大約是80台。

華為Mate60Pro開售后，ASML又直接宣布，向荷蘭政府遞交的申請獲得了批準，將繼續向國內出貨2000i等型號的光刻機。

關鍵是，ASML公開表示，預計今年向國內出貨的光刻機總額，將會占全球營收的20%；對2024年的中國業務持樂觀態度。

ASML還決定向美澄清出口規則，目前仍將繼續向國內出貨2000i等型號的光刻機。

對于ASML這一系列動作，就有外媒稱ASML就先進光刻機攤牌了。當然，攤牌也是因為無奈。

首先，ASML營收主要來自光刻機銷售，EUV光刻機和DUV光刻機平分秋色，結果先進工藝產能突然過剩，導致EUV光刻機需求下滑。

消息稱，英特爾台積電等都砍掉了部分光刻機訂單，台積電更是要求廠商延遲交付相關設備。

ASML也承認新增光刻機訂單數量，同比下滑超40%，所以ASML只能出貨更多DUV光刻機。

中國是全球最大的芯片消費市場，又最大的新能源汽車產銷國，越來越多的芯片又將在國內生產制造。

ASML都表示，目前向國內出貨的光刻機數量，僅滿足國內市場需求的50%，可想國內需求有多大。

其次，ASML的光刻機雖然先進，并非不可超越，ASML也承認物理定律是相同的，中國廠商通過努力研發，是能夠打造先進光刻機的。

麒麟9000s芯片商用，證明國內產業鏈已經打造出來了先進的光刻機，華為徐直軍還呼吁國內廠商更多采用國產芯片等設備。

日本廠商還研發出來5nm壓印機，通過NIL工藝將芯片制程縮小至5nm。

關鍵是，越來越多的芯片新技術出現，像堆疊技術芯片、光電芯片、量子芯片等，這些都將會逐漸替換傳統的硅芯片。

更何況，ASML已經遇到了技術瓶頸，光刻機技術幾乎停滯不前了，荷蘭都宣布投資11億歐元進入光電芯片領域。

在這樣的情況下，ASML只能加速出貨，否則，其將會失去更多市場，更快的被其它技術所替代。

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