要制造5nm及以下先進制程芯片，就離不開高端EUV光刻機。然而，截至目前為止全球也只有一家能夠生產EUV光刻機，那就是全球最大的光刻機制造商荷蘭ASML。

ASML還憑借壟斷EUV光刻技術，遠超日本尼康和佳能兩家光刻機巨頭，并且占據全球90%左右的市場份額。不過，ASML怎麼也沒有料到，EUV竟然被意外繞過！

其實，7nm是應用EUV光刻機與否的一個關鍵節點。如果利用次高端的浸潤式DUV光刻機，也可以做出7nm制程的芯片，EUV進入產線前台積電就曾這樣操作過。

只不過，那樣操作需要經過多重曝光，不僅成本過高，芯片良率也不高，所以EUV光刻機量產應用后，台積電就引入了EUV，如今7nm及以下先進芯片都依賴EUV。

然而，EUV只有實力較強的晶圓廠商才會購買，因為每台EUV的成本就數億美元。

因此，在全球晶圓制造廠商中，只有排名第一的台積電和排名第二的三星購買了一定數量EUV光刻機，并且以此為基礎，全球只有這兩家率先進入7nm以下制程。

全球排名第三的格芯和排名第四的聯電先后放棄先進制程，也就不需要購買EUV。

排名第五的中芯國際之前還想追逐先進制程，于是向ASML訂購了一台EUV時，但卻遭到美方阻撓，連續四次向荷蘭方面施壓，導致該台EUV光刻機至今未能到貨。

如今，不僅EUV光刻機還受限制，就連次高端的浸潤式DUV也被美方盯上，督促荷蘭于9月1日實施出口管制，近日美方又升級限制，ASML將不能再出貨先進DUV。

這就意味著沒有EUV，我們想要實現5nm甚至更高端的制程工藝，可能性就不大了。

那麼，美方的如意算盤就達成了嗎？近日，日本佳能宣布新消息，開始銷售基于「納米壓印」技術芯片生產設備，關鍵是該設備可以繞開EUV光刻機制造5nm芯片。

這不僅讓美方猝不及防，恐怕連ASML也沒有料到。要知道，早些年日本尼康和佳能超過美方光刻機制造商，成為全球新的光刻機巨頭，當時的ASML還不太起眼。

ASML冒險引入了台積電林本堅的浸潤式光刻技術，推出了浸潤式DUV光刻機，實現了對尼康和佳能的超越。之后又獨家推出EUV光刻機，徹底成為新光刻機巨頭。

不過尼康和佳能并沒有放棄，尼康繼續研發浸潤式光刻技術，做出了浸潤式DUV。

而佳能卻另辟蹊徑，開始押注納米壓印技術。該技術可以不使用EUV光刻機，直接通過壓印形成圖案。佳能經過十多年的努力，終于將該設備制程技術推進到5nm。

盡管跟ASML的EUV光刻技術相比，納米壓印技術的芯片制造速度相對較慢。但納米壓印設備也有自己的優勢，一方面能夠大幅減少耗能，耗電量僅為EUV的10%。

另一方面更加重要，那就是設備成本更低，納米壓印設備的價格僅為EUV十分之一。

這就給芯片制造開辟了一條新道路，之前因為設備投資過高，張忠謀創立台積電時才選擇了純代工模式，讓更多芯片企業可以僅從事芯片設計，代工就交給台積電。

如今有了價格優惠又能生產先進芯片的制造設備，台積電、三星、中芯國際等可以有第二個選擇，更加靈活為客戶生產小批量芯片，芯片企業也可以自己生產芯片。

關鍵是，美方的限制規則和日本的出口管制措施都沒有涉及納米壓印技術的光刻機。

那麼，是不是意味著我們就能購買佳能的納米壓印光刻機呢？近日，佳能CEO給出了答案，人家的理解是日本出口管制規則是不超過14nm，所以不能向大陸出售。

不過，這已經不太重要了，至少給我們提供了一種思路。再說，近期華為的麒麟芯片回歸，意味著我們已經能實現7nm先進制程，說不定我們也有新的技術路線！

對此有外媒直接表示，ASML大勢已去了，EUV壟斷被繞開，ASML優勢不多了！

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