前段時間，「浸潤式光刻機之父」，前台積電副總裁林本堅在接受媒體采訪時表示，浸潤式DUV光刻機，可以將芯片工藝從7nm推向5nm，只是成本比較高。

因為制造5nm的芯片，需要至少4次曝光，相比于一次性曝光，需要的時間多了4倍，成本明顯就高多了。

甚至林本堅還表示，5nm遠不是浸潤式DUV光刻機的極限，最多可以6次曝光，工藝會更先進，但缺點就是成本高。

聽到這則消息后，很多人表示，那麼預計接下來，國內很快可能就會推出5nm的芯片了，因為我們沒有EUV系統，只有用DUV光刻機進行4次曝光來制造5nm芯片。

甚至未來，很可能我們還會看到國內晶圓廠，使用DUV光刻機，經過6次曝光來制造4nm、3nm的芯片……

果然，最近幾天，就有多家媒體報道稱，國內某晶圓廠，正在和國內某手機巨頭聯手，制造5nm芯片，而使用其芯片的手機，或會在明年發布。

至于哪家晶圓廠，哪家手機廠，估計很好猜，我就不多說了，至于消息是真是假，誰也不知道，想但來不是穴來風，畢竟利用DUV制造7nm已經實現了，接下來再前進，就肯定是5nm了，同時從林本堅的話來看，技術上是可行的。

很多人為此歡呼，但事實上，制造5nm芯片背后，還有一件更有意義的事情，那就是美國再也擋不住了，我們的芯片產業只要達到5nm工藝，就真的無懼封鎖了。

目前使用5nm以下工藝，也就是3nm、4nm工藝制造出來的芯片，占所有芯片的總量，還達不到3%，只有手機Soc才用到這麼先進的工藝，其它所有的芯片，5nm就足夠了。

一旦我們能夠制造97%的芯片，那還擔心什麼呢？完全可以實現自給自足，根本就不怕打壓封鎖了。

當然，目前只是傳聞，真假未知，所以我們在歡呼的同時，也需要冷靜一下，靜待5nm的芯片推出來，一旦推出，我們確實可以沸騰一下，否則就是空歡喜一場。

另外，就算使用DUV系統，真的制造出了5nm芯片，國產半導體設備依然不能放松，必須加大國產替代的比例、廣度、深度，才能真正擺脫對外依賴。

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