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美國擋不住了,我們開始用DUV光刻機,制造5nm芯片了?
2023/12/13

前段時間,「浸潤式光刻機之父」,前台積電副總裁林本堅在接受媒體采訪時表示,浸潤式DUV光刻機,可以將芯片工藝從7nm推向5nm,只是成本比較高。

因為制造5nm的芯片,需要至少4次曝光,相比于一次性曝光,需要的時間多了4倍,成本明顯就高多了。

甚至林本堅還表示,5nm遠不是浸潤式DUV光刻機的極限,最多可以6次曝光,工藝會更先進,但缺點就是成本高。

聽到這則消息后,很多人表示,那麼預計接下來,國內很快可能就會推出5nm的芯片了,因為我們沒有EUV系統,只有用DUV光刻機進行4次曝光來制造5nm芯片。

甚至未來,很可能我們還會看到國內晶圓廠,使用DUV光刻機,經過6次曝光來制造4nm、3nm的芯片……

果然,最近幾天,就有多家媒體報道稱,國內某晶圓廠,正在和國內某手機巨頭聯手,制造5nm芯片,而使用其芯片的手機,或會在明年發布。

至于哪家晶圓廠,哪家手機廠,估計很好猜,我就不多說了,至于消息是真是假,誰也不知道,想但來不是穴來風,畢竟利用DUV制造7nm已經實現了,接下來再前進,就肯定是5nm了,同時從林本堅的話來看,技術上是可行的。

很多人為此歡呼,但事實上,制造5nm芯片背后,還有一件更有意義的事情,那就是美國再也擋不住了,我們的芯片產業只要達到5nm工藝,就真的無懼封鎖了。

目前使用5nm以下工藝,也就是3nm、4nm工藝制造出來的芯片,占所有芯片的總量,還達不到3%,只有手機Soc才用到這麼先進的工藝,其它所有的芯片,5nm就足夠了。

一旦我們能夠制造97%的芯片,那還擔心什麼呢?完全可以實現自給自足,根本就不怕打壓封鎖了。

當然,目前只是傳聞,真假未知,所以我們在歡呼的同時,也需要冷靜一下,靜待5nm的芯片推出來,一旦推出,我們確實可以沸騰一下,否則就是空歡喜一場。

另外,就算使用DUV系統,真的制造出了5nm芯片,國產半導體設備依然不能放松,必須加大國產替代的比例、廣度、深度,才能真正擺脫對外依賴。

嚴禁無授權轉載,違者將面臨法律追究。

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