光刻機制造技術最先進的廠商是ASML,EUV光刻機量產后，直接就被限制出貨，國內廠商全款訂購的EUV光刻機，至今都沒到貨。

美又多次修改規則，限制ASML出貨主流的DUV光刻機，ASML以采用美技術有限為由給拒絕了。

美日荷早就簽訂了三方協議，內容一直保密，今年初ASML等廠商才獲得協議內容，并率先將透露了三方協議的內容。

日本早就限制23種半導體產品出貨，7月中旬就落地了。荷蘭則宣布將會配合美進行相關半導體產品出貨，9月1日開始實施。

荷蘭宣布后，ASML直接稱中國市場至關重要，將繼續向國內出貨光刻機，并向荷蘭政府遞交申請，并加速向國內出貨光刻機。

9月1日前，ASML一直加速向國內出貨，兩個季度向國內出貨了48億歐元的光刻機。

直到華為Mate60Pro突然開售，彭博社等確認，華為Mate60Pro等采用的麒麟9000s芯片是在國內制造的，并且采用了國產設備。

ASML才官宣獲得許可，將繼續出貨先進DUV光刻機。

有消息稱，自2019年以來，ASML共計向國內出貨6台2000i及后續型號的光刻機，這些DUV光刻機是EUV光刻機的過渡產品，可以將芯片制程縮小至5nm。

也有消息稱，ASML向國內出貨的光刻機，始終都是以1980i等早些型號的設備為主，主要用于制造28nm等成熟工藝，在多種曝光工藝下，可將芯片制程縮小至14nm。

華為Mate60Pro開售后，ASML官宣繼續向國內出貨2000i等后續型號的光刻機，也是有原因的。

首先，華為Mate60Pro采用的麒麟9000s芯片，被證實接近或達到了7nm水準，這意味著國內有7nm工藝的能力。

消息稱，國內產業鏈有能力打造DUVi光刻機，其可以將芯片制程縮小至7nm，很快還將實現非美7nm全流程。

另外，台積電從今年初開始，加速向國內出貨7nm AI芯片等產品，并派魏哲家拜訪國內重要客戶。

這些都能說明國內產業鏈在先進光刻機方面取得了突破，所以ASML不得不向國內出貨2000i等型號的光刻機。

要知道，EUV光刻機需求已經下滑，如果2000i等型號光刻機出貨量也下滑，ASML自然是壓力山大，老款DUV光刻機出貨量大，但貢獻利潤和營收低。

其次，國內能夠制造什麼，什麼產品就會獲得相關出貨許可，這幾乎成了定律。

芯片規則修改后，大量芯片不能自由出貨，結果華為汽車采用了自研芯片，美就批準了一項價值不菲的汽車芯片出口許可。

華為聯合國內廠商突破了14nm以上EDA工具國產化，今年將全面驗證，美就限制14nm以下相關產品出貨。

結果麒麟9000s芯片接近或達到了7nm水準，相關產品獲得出貨許可也是慣例。

不過，華為已經宣布芯片自給率達到了70%，并呼吁更多國內廠商采用國產芯片等產品，推動國內產業鏈發展，這明顯是要突破更先進的芯片技術，加速實現全面國產化。

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