價格只有EUV的10%,佳能銷售5nm光刻機,但不賣給中國
2023/11/07

眾所周知,前段時間佳能正式在官網官宣,其旗下的NIL納米壓印光刻機生產設備 FPA-1200NZ2C出貨了,而這個光刻機,與EUV光刻機不同,是繞開EUV的另外一種納米壓印技術,但是能夠生產5nm芯片。

一時之間,讓整個芯片圈震蕩,因為以前所有7nm以下的芯片制造,都必須使用EUV光刻機,而全球僅ASML一家能夠生產EUV光刻機,佳能此舉相當于打破了ASML壟斷,能夠改寫整個市場格局。

不過,當時很多人對佳能的NIL納米壓印光刻機存疑,因為究竟什麼時候銷售,成本又是什麼樣的,能效比,效率,良率等都沒有。

而近日,佳能首席執行官三井藤夫接受媒體采訪,說出了很多關鍵的指標參數,或許可以部分解決大家的疑問了。

按照三井藤夫的說法,佳能的納米壓印光刻機,其售價只有EUV光刻機的10%左右。同時其耗電量也只有EUV 技術的10%。

另外從總投資成本來看,用NIL納米壓印技術,可讓設備投資成本降低至原有EUV設備的

40%左右。

而關于納米壓印光刻機,三井藤夫提到,它可以更為靈活的為客戶生產小批量芯片,甚至可以讓芯片設計工廠,不必再依賴于晶圓代工廠來進行流片,以及生產小批量的芯片。

由此可以推測,其量產能力應該不會非常強,畢竟對于一般的芯片設計企業而言,不需要大規模的產線,只需要小批量的生產線來驗證即可,所以納米壓印光刻機,更適用于小規模生產。

估計到了這里,馬上就會有人反應過來,那麼這比較適合華為,華為是芯片設計廠,但目前因為眾所周知的原因,制造被卡了,所以急需這種設備,自己生產芯片,又是5nm工藝。

而三井藤夫正確認,這種設備是不能賣到中國來的,之前日本的出口管制清單,當中就有限制「可實現45nm以下線寬的壓印光刻裝置」

而最為明確的規定則是用于14nm及以下芯片制造的設備,是無法出口到中國大陸來的,所以佳能這種設備,也無法賣給中國。

但不管怎麼樣,雖然我們暫時無法買到,但也給我們指了一個方向,同時也給了ASML一擊暴擊,后續EUV光刻機,也沒這麼神了。

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