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導讀：2nm無需EUV光刻機，荷蘭ASML始料未及，外媒：難怪加緊出貨了

隨著中國科技產業的快速發展，對光刻機的需求也在不斷增長。作為全球最大的光刻機需求市場，中國大陸市場對于荷蘭ASML等光刻機巨頭企業來說，具有不可忽視的吸引力。然而，在美國芯片禁令的影響下，這些企業也面臨著出口管制的壓力。近日，佳能表示已經突破了5nm的NIL工藝，預計到2026年可以實現2nm的NIL工藝，這一消息讓荷蘭ASML也始料未及！

NIL工藝是一種不依賴于EUV光刻機的先進技術，它通過使用極紫外光線來刻畫電路圖案，從而避免了傳統光刻機使用可見光或X射線刻畫電路圖案時所面臨的分辨率限制。因此，NIL工藝可以生產出更精細的芯片，提高芯片的性能和功耗效率。佳能作為日本的一家光刻機巨頭企業，一直以來都在致力于研發先進的NIL工藝，以搶占更多的市場份額。

對于ASML來說，它的EUV光刻機無疑是全球最先進的設備之一，也是其壟斷市場份額的關鍵因素之一。然而，隨著中國科技企業的崛起和日本企業的快速發展，ASML也面臨著來自競爭對手的壓力。尤其是當佳能宣布已經突破了5nm的NIL工藝時，ASML的地位也受到了威脅。因為這意味著未來2nm的芯片生產將不再依賴于EUV光刻機，而這是ASML獨家供應的技術。

在這種情況下，ASML也不得不加緊對中國客戶的出貨。因為中國市場已經成為全球最大的光刻機需求市場之一，而且中國科技企業正在加快從ASML手中購買光刻機的速度。為了保持市場份額并滿足中國客戶的需求，ASML也不得不加快出貨，以滿足大陸市場的需求，并提前搶占市場。

事實上，除了ASML和佳能之外，中國的光刻機企業也在快速發展和崛起。例如，高能離子注入機；6英寸碳化硅生產線、28nm光刻機設備等突然破，不僅為中國半導體產業的發展提供了有力支持，也讓我們看到了中國光刻企業的實力和潛力。

然而，盡管中國光刻企業已經取得了一定的進展，但是與荷蘭ASML和日本佳能等國際巨頭相比，我們的技術和實力還存在較大的差距。因此，我們需要繼續加大研發力度和技術創新，提高自身的核心競爭力，以實現從中國制造向中國創造的跨越式發展。

此外，我們也需要加強產業鏈整合和國際合作。因為半導體產業是一個高度全球化的產業，任何一個環節的缺失都可能導致整個產業鏈的斷裂。因此，我們需要加強與國際企業的合作和交流，共同推動半導體產業的發展和創新，只有將核心技術掌握在自己手中，才能避免被人「卡脖」！

最后，我們也需要看到中國半導體產業發展的機遇和挑戰。隨著5G、物聯網、人工智能等新興技術的快速發展和應用，半導體產業將迎來更加廣闊的市場和發展空間。

但是，我們也需要應對來自國際競爭、技術更新換代、知識產權保護等方面的挑戰。只有通過不斷努力和創新，才能在全球半導體市場中獲得更大的話語權和主動權；對此你是怎麼看的呢？

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