對于EUV光刻機，在過去4年被賦予了太多的光環，甚至可以說已經被神話了，原因很簡單，因為EUV光刻機已經被判定為，通往高端芯片制造的「門票」，也正是基于此，作為全球唯一一家有能力生產制造EUV光刻機的廠商ASML公司也被各大芯片代工巨頭奉為座上賓。

但是，在2018年，ASML公司因為老美的要求停止向我國中芯國際發售EUV光刻機，這讓我國在高端芯片制造領域陷入到了被動局面里，為了解決這種被動局面，在過去幾年里，我國的頂級科研機構、高校以及各大民營科技巨頭都在紛紛加碼光刻機技術，希望能夠在短時間內，在EUV光刻機領域獲得大的突破。

可是，面對著我國對于EUV光刻機的聚焦，無論是老美還是ASML公司都傳來了冷嘲熱諷，他們都認為我們不可能打造出EUV光刻機，因此，他們更加不可能相信我們有能力打造出高階芯片。

但是，華為Mate 60 Pro的發售卻狠狠地打了歐美的臉，因為根據數據顯示，我們沒有依靠EUV光刻機，在老美的限制之下，依舊生產制造出了精度接近7nm的麒麟9000S芯片。

對于華為的操作，外界很是震驚，特別是白宮，更是放話要調查華為的供應鏈，之所以這麼做，就是想要完全限制死我國國產芯片的發展可能。

但是，最近一則新消息的出爐，似乎意味著EUV光刻機不香了，因為上海創消技術發展有限公司放出了大招，根據數據顯示，這家中企正在神器5nm芯片制造的直接蝕刻方法，并且專利已經進入到了申請公布階段，這也就是說，該專利已經通過了初步審查，算是一只腳跨入了成功，接下來只要實質審查通過，就意味著這項專利徹底穩了。

而面對這則消息，外媒給出的評價是，如果最終成功申請通過，那麼這將比華為Mate 60系列的發布更加驚艷，同時也意味著拜登要徹底慌了，因為這意味著老美的封鎖將徹底失效。

其實，這也不是什麼新鮮事情，因為早在之前，日本和韓國就因為EUV光刻機的造價過高，技術復雜所以對于EUV光刻機的替代技術展開了研究，納米壓印技術就是在這種場景下脫穎而出的，并且根據最新消息顯示，納米壓印技術也同樣是進入到了5nm階段。

不過，相比之下，上海創消技術發展有限公司的這項技術的確更加高級一些，因為根據該技術的介紹顯示，按5nm蝕刻線寬設計芯片版圖，設計蝕刻掩模版后，用激光直寫光刻機刻出蝕刻掩模版；晶圓準備好后將蝕刻掩模板緊靠晶圓上表面，用等離子體進行干法蝕刻。

這就相當于直接從膠卷相機進入到了數碼相機時代，沒有了洗膠卷這個步驟，而納米壓印的本質依舊是存在洗膠卷這個過程。

其實，對于高階芯片技術的突破難度并沒有我們想象中的那麼那麼大，畢竟在任何技術發展的時候，從無到有的創新才是最難的，提高技術的上限是第二難得，但是，看到上限，想辦法去追逐上限，這個過程反而是相對比較容易得，而我們也沒有說按照老美當年的路子，重新走一遍老美過往的發展路程，我們是同步開工，直接尋找新的突破方案，這無疑會讓追逐的時間縮短很多。

這一點是歐美沒有想到的，所以接下來就讓歐盟見證我們在半導體領域的超越吧。