對于EUV光刻機,在過去4年被賦予了太多的光環,甚至可以說已經被神話了,原因很簡單,因為EUV光刻機已經被判定為,通往高端芯片制造的「門票」,也正是基于此, 作為全球唯一一家有能力生產制造EUV光刻機的廠商ASML公司也被各大芯片代工巨頭奉為座上賓。
但是,在2018年,ASML公司因為老美的要求停止向我國中芯國際發售EUV光刻機,這讓我國在高端芯片制造領域陷入到了被動局面里,為了解決這種被動局面,在過去幾年里,我國的頂級科研機構、高校以及各大民營科技巨頭都在紛紛加碼光刻機技術,希望能夠在短時間內,在EUV光刻機領域獲得大的突破。
可是,面對著我國對于EUV光刻機的聚焦,無論是老美還是ASML公司都傳來了冷嘲熱諷,他們都認為我們不可能打造出EUV光刻機,因此,他們更加不可能相信我們有能力打造出高階芯片。
但是,華為Mate 60 Pro的發售卻狠狠地打了歐美的臉, 因為根據數據顯示,我們沒有依靠EUV光刻機,在老美的限制之下,依舊生產制造出了精度接近7nm的麒麟9000S芯片。
對于華為的操作,外界很是震驚,特別是白宮,更是放話要調查華為的供應鏈,之所以這麼做,就是想要完全限制死我國國產芯片的發展可能。
但是,最近一則新消息的出爐,似乎意味著EUV光刻機不香了,因為上海創消技術發展有限公司放出了大招,根據數據顯示,這家中企正在神器5nm芯片制造的直接蝕刻方法,并且專利已經進入到了申請公布階段, 這也就是說,該專利已經通過了初步審查,算是一只腳跨入了成功,接下來只要實質審查通過,就意味著這項專利徹底穩了。
而面對這則消息,外媒給出的評價是,如果最終成功申請通過,那麼這將比華為Mate 60系列的發布更加驚艷,同時也意味著拜登要徹底慌了,因為這意味著老美的封鎖將徹底失效。
其實,這也不是什麼新鮮事情,因為早在之前,日本和韓國就因為EUV光刻機的造價過高,技術復雜所以對于EUV光刻機的替代技術展開了研究,納米壓印技術就是在這種場景下脫穎而出的, 并且根據最新消息顯示,納米壓印技術也同樣是進入到了5nm階段。
不過,相比之下,上海創消技術發展有限公司的這項技術的確更加高級一些,因為根據該技術的介紹顯示,按5nm蝕刻線寬設計芯片版圖,設計蝕刻掩模版后,用激光直寫光刻機刻出蝕刻掩模版;晶圓準備好后將蝕刻掩模板緊靠晶圓上表面,用等離子體進行干法蝕刻。
這就相當于直接從膠卷相機進入到了數碼相機時代,沒有了洗膠卷這個步驟,而納米壓印的本質依舊是存在洗膠卷這個過程。
其實,對于高階芯片技術的突破難度并沒有我們想象中的那麼那麼大,畢竟在任何技術發展的時候,從無到有的創新才是最難的,提高技術的上限是第二難得, 但是,看到上限,想辦法去追逐上限,這個過程反而是相對比較容易得,而我們也沒有說按照老美當年的路子,重新走一遍老美過往的發展路程,我們是同步開工,直接尋找新的突破方案,這無疑會讓追逐的時間縮短很多。
這一點是歐美沒有想到的,所以接下來就讓歐盟見證我們在半導體領域的超越吧。