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ASML先進光刻機出貨許可即將到期,但新任CEO也明確表態了
2023/12/19

美一直都想限制ASML出貨主流的DUV光刻機,多次修改規則、游說無果后,美日荷簽訂了三方協議,限制主流先進半導體產品出貨。

但ASML卻宣布獲得了許可,繼續向國內出貨2000i等型號的光刻機,許可有限期至2024年1月1日,台積電證實,這些型號的光刻機可用于5nm工藝。

如今,ASML先進光刻機出貨許可即將到期,如果沒有獲得新的許可,2024年將不能向國內出貨2000i及后續型號的光刻機,只能出貨用于14nm以上等工藝的光刻機。

但沒有想到的是,ASML新任CEO明確表態了。

據悉,ASML監事會宣布,擬任命克里斯托夫·富凱為總裁兼首席執行官,該任命將在2024年4月24日的年度股東大會批準后正式生效,從而接替彼得·溫寧克和馬丁·范登布林克。

雖然還沒有正式上任,但克里斯托夫·富凱就明確表達了三點。

首先,2024年光刻機需求強勁。

芯片先進工藝產能過剩,導致先進光刻機需求下滑,台積電、英特爾等都削減了資本開支,并砍掉了部分光刻機訂單。

但克里斯托夫·富凱認為2024年將是一個由半導體調整周期底部走高的過渡年,對光刻機的需求將會增加。

其次,ASML將會在2024年做出兩個調整。

克里斯托夫·富凱稱,2024年將會增加光刻機的產能,并推出更先進的光刻機。

目前,最先進的光刻機是NA EUV光刻機,主要用于2nm等工藝,年內將會交付給客戶第一台NA EUV光刻機,這意味著ASML還有更先進的光刻機技術。

ASML已經表示光刻機采用美技術有限,修改規則對ASML光刻機出貨的影響也是有限的。

如今,ASML將推出了更先進的光刻機,美技術占比會更低,未來自由出貨最先進的光刻機,并非沒有可能。

三方協議就限制ASML出貨主流的2000i等型號的光刻機,但ASML依舊獲得許可,繼續出貨。

這已經說明ASML能否自由出貨還在于荷蘭和ASML,因為光刻機采用美技術有限,基本可以實現不受美規則影響,更何況,ASML還將推出更先進的光刻機。

最后,溫寧克曾明確表示,自中國等市場的收入并進行再投資,讓ASML一直捍衛技術并保證了技術領先,第三季度國內市場還成為ASML營收最大的貢獻者。

新任CEO也肯定了從中國市場獲得大量的營收,并表示從貿易等角度來看,同地區之間脫鉤是非常困難的,特別是芯片半導體行業。

關鍵是,ASML早就明確表示,2023年來自中國的營收將會超過55億歐元,占比超過20%,并對2024年中國市場持樂觀態度。

其實,無論ASML出貨與否,華為等國內產業鏈都在快速突破。

消息稱,國內產業鏈已經有能力打造DUVi光刻機,可將芯片制程縮小至7nm,黃仁勛也明確表示,華為是最強大的競爭對手之一。

限制出貨是不可能阻止中國廠商獲得高性能芯片等產品,只能會讓ASML等芯片巨頭失去國內市場。

畢竟,麒麟9000s等芯片已經回歸,進口芯片數量持續減少,國產芯片數量持續增加,而中國又是芯片消費和新能源汽車最大的產銷國。

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