眾所周知,以前美國是不準EUV光刻機賣到中國來,其它的光刻機不受限。
後來在去年10月份,將光刻機禁令升級了,規定光刻機如果采用193nm波長的光源,且分辨率小于45nm時,其光刻機套刻精度的DCO值小于1.5nm時, 不準出口。
按照這個規定,ASML的浸潤式光刻機中,還有NXT:1980Di可以出口,因為它的DCO值是1.6nm。
而在8月份,華為Mate60 手機橫空出世,搭載了麒麟9000S芯片,這顆芯片采用的是等效于7nm的工藝,很多人認為,這是浸潤式光刻機經過多重曝光生產出來的。
于是在今年10月17日,美國升級光刻機禁令,規定193nm波長的光源,分辨率小于45nm時,其DCO值小于2.4nm,就不能出口,相當于將唯一的一台浸潤式光刻機,也堵住了。
這對于ASML而言,肯定是大事,畢竟中國大陸的市場,是ASML無法放棄的市場。2022年,中國從ASML買了大約 100台光刻機,價值高達200多億。
而2023年前三個季度,ASML就向中國賣了53億歐元的光刻機,價值400多億,是去年全年的2倍多,第三季度的時候,中國大陸貢獻了ASML營收的46%。
這樣的市場,ASML怎麼舍得?再說了,ASML擔心一旦它的光刻機不賣到中國市場,中國會自己研發出來,那麼就沒ASML什麼事了。
所以近日有消息稱,ASML看到NVIDIA刀法如神,每次都能按照美國的禁令,進行精準閹割,推出不違反禁令,又能賣到中國大陸市場的GPU芯片之后,有了誰啟發,決定對其光刻機也進行閹割。
按照禁令,浸潤式光刻機,采用193nm波長的光源,分辨率小于45nm,但只要DCO值大于2.4nm即可銷量,小于2.4nm就不能銷售。
所以ASML計劃將現有的浸潤式光刻機進行調整,光源不變,分辨率不變依然保持38nm,但DCO值調整,讓其變成2.4nm以上,這樣就可以出口了。
而DCO值調整之后,對芯片制造的分辨率有一定的影響,比如生產先進芯片時,有可能會影響到良率,效率等,但至少已經不受限制了。
浸潤式光刻機,與非浸潤式光刻機相比,就算DCO值變成2.4nm+了,工藝也會先進很多,目前中國大陸無法生產出浸潤式光刻機,上海微電子的工藝還在90nm,這樣閹割的浸潤式光刻機,依然大有市場。
當然,以上只是傳聞,會不會如此,還不清楚,但參照Nvidia迅速推出中國特供版本GPU芯片來看,ASML這麼干,也非常有可能,你覺得呢?
這樣的光刻機,我們買不買?不黑不吹,在自己沒有浸潤式光刻機之前,只能買,畢竟它還是比普通干式光刻機強很多的,所以關鍵還是國產光刻機突破。
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