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14納米做出7納米性能?國產芯片開創提升性能的新技術
2023/11/12

以現有的芯片工藝研發更先進的性能一直都是國產芯片努力的方向,為此國產芯片做出了多種努力,而近日業界人士指出國產芯片可以用14納米乃至28納米工藝做出7納米性能的芯片,給予國產芯片啟發。

近日中國半導體行業協會,集成電路設計分會理事長魏少軍,在最近的演講中疑似披露相關信息,表示用14納米乃至28納米做出7納米的性能才是高手,并以mate60和長江存儲的存儲芯片為例子,這似乎解釋了這款芯片的工藝。

這家科技企業的5G芯片工藝一直都受到國內外的關注,外媒認為是7納米工藝,而國內相關媒體一直沒有確認相關的消息,該企業也沒有給予正面回應,這次魏少軍的說法或許說明了這款5G芯片是以國產的14納米工藝做出了7納米的性能。

為了提升現有的工藝性能,國產芯片推進了小芯片、芯片堆疊等技術,希望以這些技術提升現有的14納米、28納米工藝的性能,如今魏少軍的說法印證了,國產芯片確實可以利用這些創新科技提升芯片性能。

以創新的芯片技術提升芯片性能也是全球芯片行業努力的方向,台積電、Intel等組織了chiplet芯片聯盟,也是希望以創新的技術提升芯片性能、降低成本。

芯片行業如此做,在于芯片制造工藝推進的難度越來越大,台積電達到3納米工藝就發現工藝良率低至55%,而生產的A17處理器性能提升幅度僅有10%還存著發熱問題,這與台積電此前宣稱的3納米工藝提升性能25%、功耗降低30%并不相符,證明了先進工藝的推進難度越來越大。

事實上,當前台積電、三星的先進工藝也備受質疑,外媒認為它們的10納米以下工藝屬于數字游戲并未延續摩爾定律,Intel也曾列舉參數指出台積電、三星的7納米工藝只是相當于Intel的10納米工藝,這都說明先進工藝的研發其實早已變樣。

對于中國芯片來說,開發先進工藝則受制于芯片設備,由于眾所周知的原因,光刻機巨頭ASML至今未能為中國芯片提供EUV光刻機,這就導致中國研發7納米及以下工藝面臨重重阻礙。

為了推進先進工藝,中國一直都在努力完善芯片產業鏈,目前中國的芯片制造環節大多都已達到14納米,隨著浸潤式光刻機的研發成功,國產芯片產業鏈已能基本完成14納米工藝的國產化。

如果這款5G芯片證明了可以用14納米工藝生產出7納米工藝性能的芯片,那麼中國的諸多芯片都能以類似的技術達到較為先進的水平,業界人士指出只要能開發出相當于7納米性能的芯片將能滿足國內九成的芯片需求,國產芯片自給率將大幅度提升。

由于國產芯片產業鏈的進展,ASML自9月份開始為中國供應可以用于7納米工藝的2000i光刻機,如此情況下再輔以相關的技術,或許不久的未來國產芯片達到5納米工藝的性能也是有可能性的。

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