眾所周知,目前的芯片制造,基本上是基于光刻工藝,所以必須用到光刻機。
而光刻機又芯片工藝制程對應,如下力所示,比如G線、i線對應的是350nm及以上的芯片工藝,而KrF對應的是350-130nm。
ArF對應的是130-65nm;而ArFi是ArF的改進版,也稱之為浸潤式DUV光刻機,對應的是65-7nm;EUV是極紫外線光刻機,對應的是7nm以下。
目前,全球的光刻機市場,主要被荷蘭的ASML壟斷,ASML一家就占了全球90%的份額。其中先進的ArFi光刻機,ASML占了95%,EUV光刻機,ASML占了100%。
日本的尼康、佳能更多的只是ArF、KrF這些較為成熟的光刻機,佳能沒有ArFi光刻機,尼康沒有EUV光刻機,而ArFi光刻機,也非常少,主要市場還是ASML的。
而中國上海的微電子,水平還在ArF,工藝制程在90nm,所以國內一直以來就是大量采購ASML的光刻機。
美國之前是不允許ASML的EUV光刻機賣到中國大陸來,所以至今為止,中國大陸的晶圓廠,都沒有EUV光刻機。
後來,美國更想鎖死中國大陸的邏輯芯片工藝在14nm,于是又聯手日本、荷蘭,對光刻機進一步限制。
其中日本表示所有的浸潤式光刻機,都不能出口到中國。而荷蘭的ASML則表示,所有的浸潤式光刻機中,只有一台NXT:1985Di能出口。
後來在2023年10月份,美國禁令再次升級,ASML唯一一台能夠出口的NXT:1985Di也被禁了,無法再出口到中國大陸來了。
不過ASML也稱,2023年他們還是拿到了許可證,所以2024年內,所有的浸潤式光刻機都能夠賣到中國大陸來,但2024年開始,就不行了,所以目前ASML的浸潤式DUV光刻,EUV光刻機,正式斷供了。
所以我們看到,2023年內,中國大陸在大量的從ASML進口光刻機,數據顯示,1-11月份,中國大陸向ASML進口的光刻機金額已經超過了500億元,是2022年的3倍左右。
很明顯,中國大陸在趁著ASML還能出口浸潤式光刻機,瘋狂大采購,瘋狂囤貨,畢竟2024年開始,浸潤式光刻機就買不到了。
按照業內人士的預測,今年從ASML采購的光刻機,理論上能夠支撐國內3年左右的晶圓擴產需求,但3年之后,甚至也可能不需要3年,可能就會又缺光刻機了,特別是缺尖端光刻機了,比如ArFi、EUV這兩種。
所以接下來,國產芯片想要突破,就需要國產光刻機突破了,因為ASML短時間之內,是拿不到出口許可證的,浸潤式ArFi光刻機、EUV光刻機應該只能靠我們自己,不要想著進口了。
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