就芯片發展問題，美日荷曾簽訂了事關「遏華」的三方協議，協議簽訂勢必也要相互配合，在出口禁令和輿論施壓上做到口吻一致。

然而，幾年的打壓和制裁并沒有讓中國相關產業一蹶不振，反而不斷地促使我們進行自主研發和獨立創新。雖然過程艱苦，但終究還是迎來了一些好消息，首台國產化28nm DUV光刻機即將在年底實現生產。對此，ASML后悔不已，連忙表示：「我們愿意將光刻機賣給中國了！」

國產光刻機即將來臨

光刻機是半導體發展的關鍵所在，荷蘭ASML一直都行業的佼佼者，他們所生產的DUV和EUV光刻機在世界范圍內都是頂尖水平的。然而，在美方的串通之下，荷蘭幾年前便加入了遏制中國半導體發展的大軍之中。

當時，荷蘭ASML老總溫克寧更是直接唱衰中國的半導體發展，揚言中國根本沒有鍛造光刻機的人才，即便圖紙公開也無法讓中國人深諳。狠話說得太早，被打臉也來得太快。據悉，國產化的28nm光刻機即將在年底實現生產，屆時，中國光刻機的對外依賴性將極大地降低。

很長一段時間里，我們都沒有重視半導體芯片的發展，這使得我們對于相關外企的依賴十分之強，但去年而言，我們便在集成電路市場上消費了4000億美元，該市場份額達到了全球的2/3。荷蘭ASML、日本凱俠、美國高通和韓國三星等企業的最大客戶可都是我們。

只不過，密集的商貿往來并沒有換得他們的真心相待，當美國組建遏制中國芯片聯盟大軍時，他們不假思索地便加入其中了。在美國帶頭打壓的妖風之下，《芯片與科學法案》、三方協議、四方聯盟和《通脹削減法案》等接踵而來，中國的芯片半導體發展果然受到了重大的影響。

然而，好景不長，美日荷的全力圍剿終究還是面臨著失敗的命運，因為我們的光刻機已經取得了巨大的突破，28nm DUV光刻機的國產化將在年底有望實現。

迎頭趕上，中國高科技不容小覷

曾幾何時，荷蘭ASML毫不避諱地諷刺中國的光刻機發展現狀，他們一邊加入美國出口禁令的同時，一邊唱衰中國的半導體發展前景。

確實，光刻機的復雜性和精密性都是頂尖水平的，它基本上是人類科學和智慧的集大成者，其內包含的諸多精細化配套更是令人嘖嘖稱奇。從事光刻機鍛造的工程師便可深刻地體會，光刻機絕對是高科技當中的代表性行業。

在國產光刻機來臨之前，我們便已經在高速超干涉儀/精密激光上取得了重大的突破，這為28nm光刻機的到來創造了條件。短短幾年時間，我們便已經在尖端科技領域顯現了巨大的發展潛力，并收到了令人意想不到的成果。

或是表現過于亮眼的緣故，此前唱衰我們的荷蘭ASML在近期也不得不改變了口吻，大肆地稱贊中國的創新能力，以及中國市場自給率大幅提高后所帶來的嚴峻后果。ASML老總溫克寧便對外表示：「對華實施出口禁令是不現實的，這將使他們在高科技領域上更為獨立創新，他們的工程師往往會找出意想不到的解決方案，進而全力地攻克光刻機的難題。」

顯然，以中國當下的高科技發展勢頭來看，美西方大舉貿易保護主義的旗幟無疑是損人不利己的。我們的資金、市場和基建都能為光刻機的鍛造創造條件。在國產化28nm DUV光刻機即將到來的喜訊傳出后，無數國人都感到振奮。這雖然不是最頂尖的光刻機，但終歸實現了相關領域的0突破，在龐大市場反饋的加持之下，相關技術將會越來越先進。

可以說，如今的我們一舉扭轉了光刻機領域的被動態勢。見此勢頭，此前輕視中國高科技的ASML也急忙地改變了態度，紛紛地表示：「我們愿意將光刻機出售至中國了！」

ASML的態度轉變無疑透露著兩個信號，一是中國首台自主研發的光刻機的面世已經不遠了，二是ASML非常擔憂自己的未來。前者從各方渠道便可窺知一二，后者則是ASML出于中國制造的恐怖生產力所做出的合理判定，要知足，一旦中國光刻機實現量產，那勢必會全面地銷售至國內外市場。

如今的ASML深刻地意識到「計劃趕不上變化」的道理，為了實現本國的利益最大化，他們也只能放下傲慢的姿態，在對華態度上也顯得客氣起來，一邊在公眾場合表揚中國的創新能力，一邊推遲禁令、達成更多交易量的商貿。在此基礎下，ASML將與中國企業達成46台高端光刻機的大單。

毫無疑問，無論是國產光刻機的喜訊還是ASML的態度轉變，它們其實都印證了我們在高科技領域上的迅猛態勢，這將沖破「美日荷」事先設下的重重障礙，對于國產半導體芯片的發展具有莫大的意義。