在光刻機市場,業界都清楚ASML是老大,中國的光刻機技術還遠遠落后,不過這里說的其實是前道光刻機,芯片制造行業除了前道光刻機之外,還有后道光刻機,而后道光刻機則是國產光刻機取得優勢。
后道光刻機又叫封裝光刻機,后道光刻機的技術難度比前道光刻機小許多,因此中國的光刻機企業在后道光刻機技術上已取得巨大的進展,甚至還在國內市場取得近乎壟斷的份額。
據統計數據指出國產光刻機在國內后道光刻機市場已取得85%的市場份額,中國的封裝企業大多采用國產的后道光刻機,去年富士康大舉建設芯片封測廠更是一舉采購了國產的46台后道光刻機,甚至國產的后道光刻機還取得了出口。
國產的后道光刻機能取得如此巨大的市場份額,在于國產的后道光刻機技術方面已達到7納米的水平,可以滿足國內大多數芯片技術需求,在國內力推國產芯片設備替代的情況下,國產的光刻機大舉搶占市場。
另一個原因則是中國的芯片設備成本更低,在如今全球芯片行業都在壓成本的情況下,中國的光刻機技術能滿足封裝企業的需求,低成本優勢明顯,國內外的芯片封測企業都愿意采用,有利于國產的后道光刻機搶占市場。
國產光刻機在后道光刻機市場取得的優勢,為它們增強技術研發提供了支持,畢竟光刻機技術研發是很燒錢的事情,持續靠國家輸血,終究很難長久推進技術研發,而光刻機企業通過占領后道光刻機市場則可以獲得更多收入,推進前道光刻機的研發,形成良性循環。
由于在后道光刻機市場獲得了大量收入,國產的光刻機企業確實在技術研發方面也在加速推進,國產光刻機在今年中傳出的消息指已成功突破了浸潤式光刻機技術,該項技術可以應用于28納米到7納米工藝。
對此予以佐證的則是ASML在今年9月份突然宣布對中國出口更先進的2000i光刻機,2000i光刻機可以用于生成7納米,此前對中國出口的1980Di則主要用于28納米,這意味著ASML肯定了中國取得7納米光刻機技術的突破,它希望抓住時間窗口大舉對中國出口更先進的2000i光刻機獲取收入。
據稱ASML這次對中國供應的2000i光刻機不僅量大,價格也實惠,因此中國的芯片紛紛搶購,甚至有芯片制造企業不僅為生產線大舉購買2000i光刻機,還囤積了部分2000i光刻機,以作為后備的替代,ASML表示明年能否獲得許可存在疑問。
ASML突然松口,說明了中國只要堅持技術研發,取得技術突破,海外的芯片設備企業就會迅速松口,證明了自主創新的重要性,只有自主研發真正取得了突破,海外芯片設備企業才會松口,正如知名院士倪光南所言,先進技術買不來、求不來,只能靠自研。
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