近日,有很多媒體表示稱,中國大陸的晶圓廠,正在和國內某手機巨頭一起,利用DUV深紫外線技術,制造5nm的芯片,具體的芯片可能很快就要推出。
雖然消息不知真假,但結合前段時間浸潤式光刻機之父林本堅的說法,還是靠譜的,林本堅表示稱,浸潤式光刻機,可以制造5nm芯片,只是成本有點高而已,需要4重曝光。
事實上,很多專業人士有示,浸潤式光刻機的工藝級限,絕不是7nm,甚至也不是5nm,理論上連2nm芯片都能造。林本堅也表態了類似觀點,他說浸沒式DUV光刻技術,最高可以實現六重光刻模式,可以實現更先進的工藝。
只是,先進工藝下,DUV技術需要更多重的曝光技術,會顯著降低良率,降低制造效率,進而提高成本。
所以,在能買到EUV光刻機的情況下,到了7nm時,就會使用EUV紫光線來制造,與使用DUV相比,更為經濟有效,因為不需要多重曝光,良率高,成本更低。
但大家都清楚,國內買不到EUV光刻機,所以再難,再成本高,也只能用DUV光刻技術,去制造比7nm更先進的技術,這是沒辦法的事情。
所以這些媒體報道稱的,拿DUV技術,制造5nm芯片,也并不離譜,非常有可能,甚至哪一天傳出拿DUV制造3nm芯片,也有可能,不是在吹牛的。
當然,現在5nm芯片還沒造出來,但只要造出來了,就宣告美國的制裁基本失敗了。因為美國去年的政策,是將中國邏輯芯片鎖死在14nm的。
但今年,等效于7nm的芯片出來了,然后要是再有了等效5nm的芯片,當然意味著這個封鎖徹底失敗了。
更重要的是,目前全球使用5nm以下工藝的芯片,就只有蘋果的A17系列芯片、M3系列芯片,以及高通、聯發科最新的Soc,除了這些芯片之外,其它所有芯片都是使用5nm或更成熟的工藝,5nm及更成熟工藝的芯片占比超過97%。
那麼從市場份額來看,只要能夠制造5nm工藝的芯片,意味著全球至少97%的芯片都能夠制造了,僅僅只有3%的芯片制造不出來。在這樣的情況之下,我們還需要擔心封鎖、打壓麼?
所以,這顆5nm芯片希望是真的,只要它一推出來,估計美國的封鎖就徹底淪為笑話了,也就沒有存在的必要了,也意味著中國芯片產業正式騰飛起來了,你覺得呢?
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