最近,清華大學的SSMB方案,被網友們拿出來吹了又吹,稱這是國產EUV光刻機的突破,并表示SSMB-EUV方案,比ASML的EUV方案強很多……一時之間,全網沸騰啊。
什麼是SSMB?其實是指「Steady-state micro-bunching accelerator light source」的一部分,翻譯過來是:穩態微聚束加速器光源。
按照清華大學SSMB團隊負責人唐傳祥教授的說法,這個SSMB的未來潛在應用之一,就是可以成為EUV光刻機的光源。
可謂潛在應用?就是有可能的應用,而不是一定的應用,這中間還有很多需要驗證、實驗的,甚至最終說不定還用不了也有可能。
而一台EUV光刻機,由10萬多個元件組成,這10萬多個元件,可以更細的拆分為45萬多個更小的零件,這45萬多個零件,來源于全球5000多家供應鏈。
所以SSMB研發成功,最終也就是在光源這一塊,有了突破,這也只是EUV光刻機中的一小部分,至于其它的部分,還需要一一突破。
事實上,整個光刻機,是一個非常復雜的產業鏈,按照ASML的說法,ASML大約只生產了EUV光刻機中的15%,另外的85%是ASML從全球的供應鏈那里整合而來的。
ASML的的最大成就,也并不是什麼自研技術,而是整合這5000多家供應鏈,將這45萬多個零件,組裝成一台全球最精密的儀器,讓他全年無休的工作,這才是ASML的真正本事。
放到國內也是如此,清華北大這些高等學府,雖然在光刻機的突破中,會有很多的技術支持等,但清華北大搞不定所有,國產光刻機的突破,也不能只靠清華北大。
畢竟任何一台光刻機,生產出來后,是需要與上、下游供應鏈配套的,晶圓廠要使用它,它要能夠與其它半導體設備配合,最終所有設備協作,才能生產出芯片來。
ASML的光刻機,從設計之初,就有台積電等晶圓廠參與,是根據晶圓廠的要求,在不斷的試驗磨合中,進行迭代。
而放到國內也是如此,光刻機從設計之初,就需要有晶圓廠,以及其它半導體設備廠參與進來,不斷的在實際生產中進行試驗,迭代才行。
所以光刻機的突破,真不是這麼容易的,也不是清華、北大的研究團隊就可以研究出來,需要國內整個芯片產業鏈的協作才行。