最近，清華大學的SSMB方案，被網友們拿出來吹了又吹，稱這是國產EUV光刻機的突破，并表示SSMB-EUV方案，比ASML的EUV方案強很多……一時之間，全網沸騰啊。

什麼是SSMB？其實是指「Steady-state micro-bunching accelerator light source」的一部分，翻譯過來是：穩態微聚束加速器光源。

按照清華大學SSMB團隊負責人唐傳祥教授的說法，這個SSMB的未來潛在應用之一，就是可以成為EUV光刻機的光源。

可謂潛在應用？就是有可能的應用，而不是一定的應用，這中間還有很多需要驗證、實驗的，甚至最終說不定還用不了也有可能。

而一台EUV光刻機，由10萬多個元件組成，這10萬多個元件，可以更細的拆分為45萬多個更小的零件，這45萬多個零件，來源于全球5000多家供應鏈。

所以SSMB研發成功，最終也就是在光源這一塊，有了突破，這也只是EUV光刻機中的一小部分，至于其它的部分，還需要一一突破。

事實上，整個光刻機，是一個非常復雜的產業鏈，按照ASML的說法，ASML大約只生產了EUV光刻機中的15%，另外的85%是ASML從全球的供應鏈那里整合而來的。

ASML的的最大成就，也并不是什麼自研技術，而是整合這5000多家供應鏈，將這45萬多個零件，組裝成一台全球最精密的儀器，讓他全年無休的工作，這才是ASML的真正本事。

放到國內也是如此，清華北大這些高等學府，雖然在光刻機的突破中，會有很多的技術支持等，但清華北大搞不定所有，國產光刻機的突破，也不能只靠清華北大。

畢竟任何一台光刻機，生產出來后，是需要與上、下游供應鏈配套的，晶圓廠要使用它，它要能夠與其它半導體設備配合，最終所有設備協作，才能生產出芯片來。

ASML的光刻機，從設計之初，就有台積電等晶圓廠參與，是根據晶圓廠的要求，在不斷的試驗磨合中，進行迭代。

而放到國內也是如此，光刻機從設計之初，就需要有晶圓廠，以及其它半導體設備廠參與進來，不斷的在實際生產中進行試驗，迭代才行。

所以光刻機的突破，真不是這麼容易的，也不是清華、北大的研究團隊就可以研究出來，需要國內整個芯片產業鏈的協作才行。