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讓光刻機變成「廢鐵」?中國光刻機死灰復燃,外媒:拜登心都碎了
2023/09/15

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美西方國家不允許荷蘭ASML出貨最先進的EUV光刻機,高端DUV光刻機也增加了限制禁令。雖然ASML獲得了許可證,今年內仍可向大陸廠商發貨,但明年就不好說了,甚至能不能提供售后保障也充滿未知。

難道要讓光刻機變「廢鐵」?不過造芯片的方案似乎不止一種,中國光刻機死灰復燃,外媒:拜登心都碎了。

ASML態度的轉變

早在2019年的時候,ASML CEO溫寧克說過,就算給中國全套圖紙,中國也造不出頂尖光刻機。從這句話可以看出ASML的桀驁,這是對掌握EUV光刻機量產技術的自信,目前世界上只有ASML一家公司能造出EUV光刻機。

在西方國家鼎力支持下,ASML 站在芯片制造行業的金字塔頂端,所以態度非常驕傲。其實只要了解EUV光刻機有多難造就能明白ASML為何驕傲了。

首先要知道EUV光刻機的原理是通過使用一系列光學元件將EUV光束聚焦到幾十納米的尺度,然后使用掩模將芯片圖案投影到硅片上進行曝光。

在曝光過程中,EUV光束的波長只有13.5納米,比傳統的深紫外光刻機的波長短得多,可以實現更高的分辨率和更精細的芯片制造。制造EUV光刻機的難度在于EUV光刻機中的光學元件需要具有非常高的精度和穩定性,才能夠實現高分辨率的芯片制造。

全球只有少數廠商掌握該技術,比如德國的蔡司,日本的尼康。西方國家花了半個世紀設計出極紫外光刻原理,再用幾十年造出EUV光刻機。

這不是ASML一家公司的功勞,而是整個人類智慧的結晶。不過隨著半導體工藝的不斷進步和西方國家的限制,讓ASML態度發生了轉變,他擔心有朝一日中國也會通過自研取得突破。

ASML CEO在接受采訪時表示:「中國有14億人,很多人都很聰明,他們會提出我們沒有想到的解決方案,限制會迫使中國變得創新。」ASML收斂驕傲的態度,開始正視中國的自研努力。

造芯片更多的方案

條條道路通羅馬,ASML明確指出中國會提出他們沒有想到的解決方案,面對西方國家的限制,中國的確不會無動于衷。在自研的道路上,西方國家想讓光刻機變成廢鐵,不讓中國使用,只會讓中國變得更加自立自強。

那麼是否存在更多造芯片的方案呢?清華大學的一篇論文值得關注,多年前清華大學發布過一篇名為《穩態微聚束原理的實驗演示》的論文,如今又被人重新拿出來討論,而且和人們認知中建造光刻機的印象不同,是建一個光刻廠。

具體來看,「穩態微聚束」(SSMB)是一種新型粒子加速器光源,它將將電子束聚焦到非常小的直徑,被廣泛應用于電子束刻蝕和電子束光刻中。

這種技術可以使得電子束的直徑縮小到1納米以下,SSMB技術的核心是使用一組穩態磁場來聚焦電子束,這種穩態磁場可以保證電子束在傳輸過程中保持高度聚焦,從而實現高分辨率的電子束刻蝕和光刻。

SSMB最大的潛在應用就是用于未來的EUV光刻機光源,目前被探索出來的EUV光源有四種,分別為SSMB、LPP、SR、SRF-FEL,ASML公司采用的就是LPP模式,利用CO2氣體激光器轟擊液態錫,產生等離子體,最終產生13.5 nm的EUV光。

通過不斷優化,可以在中間焦點處達到350 W左右的EUV光功率。這是EUV光刻機制造中的關鍵步驟之一。

可是誰又規定ASML的技術是唯一的路徑,使用SSMB光源做成一個大圓環,擴大面積,增加功率,把傳統印象中的光刻機做成一個光刻廠,只要能造出芯片即可。

ASML造光刻機是為了賣,中國要的是芯片,而中國若要解決更多造芯片的方案,就能發揮基建狂魔的優勢,打造大型的光刻工廠。

外媒:拜登心都碎了

清華大學發布的《穩態微聚束原理的實驗演示》的論文提供了全新的思路,如果把ASML的EUV光刻機比作一台精密跑步機,在原地上就能跑步。那麼光刻廠的方案就是造一個操場,也一樣能跑起來。

若將來有一天理論能變成實踐,中國光刻機將會死灰復燃,以另一種方式把芯片造出來。西方國家不提供高端先進的設備,甚至能否提供售后服務保證也充滿未知,這是要讓已購的光刻機變成「廢鐵」,而最好的解決方案就是自己掌握造芯片的能力。

這樣不論西方國家會作何限制,都能滿足自己的需求。到時候西方國家不賣光刻機才會真的感到著急,失去全球最大半導體消費市場的損失不是他們希望看見的。

有外媒表示:拜登心都碎了,美國費了這麼大的勁,想方設法拉攏隊友建立「高墻小院」,沒想到別人已經換道出發,不走西方規劃好的路了。

我們有龐大的消費市場,有豐富的產業鏈,有SSMB理論驗證基礎,相信在中國科研人員的努力下,會帶來想要的驚喜。

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