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美西方國家不允許荷蘭ASML出貨最先進的EUV光刻機，高端DUV光刻機也增加了限制禁令。雖然ASML獲得了許可證，今年內仍可向大陸廠商發貨，但明年就不好說了，甚至能不能提供售后保障也充滿未知。
難道要讓光刻機變「廢鐵」？不過造芯片的方案似乎不止一種，中國光刻機死灰復燃，外媒：拜登心都碎了。
早在2019年的時候，ASML CEO溫寧克說過，就算給中國全套圖紙，中國也造不出頂尖光刻機。從這句話可以看出ASML的桀驁，這是對掌握EUV光刻機量產技術的自信，目前世界上只有ASML一家公司能造出EUV光刻機。
在西方國家鼎力支持下，ASML 站在芯片制造行業的金字塔頂端，所以態度非常驕傲。其實只要了解EUV光刻機有多難造就能明白ASML為何驕傲了。
首先要知道EUV光刻機的原理是通過使用一系列光學元件將EUV光束聚焦到幾十納米的尺度，然后使用掩模將芯片圖案投影到硅片上進行曝光。
在曝光過程中，EUV光束的波長只有13.5納米，比傳統的深紫外光刻機的波長短得多，可以實現更高的分辨率和更精細的芯片制造。制造EUV光刻機的難度在于EUV光刻機中的光學元件需要具有非常高的精度和穩定性，才能夠實現高分辨率的芯片制造。
全球只有少數廠商掌握該技術，比如德國的蔡司，日本的尼康。西方國家花了半個世紀設計出極紫外光刻原理，再用幾十年造出EUV光刻機。
這不是ASML一家公司的功勞，而是整個人類智慧的結晶。不過隨著半導體工藝的不斷進步和西方國家的限制，讓ASML態度發生了轉變，他擔心有朝一日中國也會通過自研取得突破。
ASML CEO在接受采訪時表示：「中國有14億人，很多人都很聰明，他們會提出我們沒有想到的解決方案，限制會迫使中國變得創新。」ASML收斂驕傲的態度，開始正視中國的自研努力。
條條道路通羅馬，ASML明確指出中國會提出他們沒有想到的解決方案，面對西方國家的限制，中國的確不會無動于衷。在自研的道路上，西方國家想讓光刻機變成廢鐵，不讓中國使用，只會讓中國變得更加自立自強。
那麼是否存在更多造芯片的方案呢？清華大學的一篇論文值得關注，多年前清華大學發布過一篇名為《穩態微聚束原理的實驗演示》的論文，如今又被人重新拿出來討論，而且和人們認知中建造光刻機的印象不同，是建一個光刻廠。
具體來看，「穩態微聚束」（SSMB）是一種新型粒子加速器光源，它將將電子束聚焦到非常小的直徑，被廣泛應用于電子束刻蝕和電子束光刻中。
這種技術可以使得電子束的直徑縮小到1納米以下，SSMB技術的核心是使用一組穩態磁場來聚焦電子束，這種穩態磁場可以保證電子束在傳輸過程中保持高度聚焦，從而實現高分辨率的電子束刻蝕和光刻。
SSMB最大的潛在應用就是用于未來的EUV光刻機光源，目前被探索出來的EUV光源有四種，分別為SSMB、LPP、SR、SRF-FEL，ASML公司采用的就是LPP模式，利用CO2氣體激光器轟擊液態錫，產生等離子體，最終產生13.5 nm的EUV光。
通過不斷優化，可以在中間焦點處達到350 W左右的EUV光功率。這是EUV光刻機制造中的關鍵步驟之一。
可是誰又規定ASML的技術是唯一的路徑，使用SSMB光源做成一個大圓環，擴大面積，增加功率，把傳統印象中的光刻機做成一個光刻廠，只要能造出芯片即可。
ASML造光刻機是為了賣，中國要的是芯片，而中國若要解決更多造芯片的方案，就能發揮基建狂魔的優勢，打造大型的光刻工廠。
清華大學發布的《穩態微聚束原理的實驗演示》的論文提供了全新的思路，如果把ASML的EUV光刻機比作一台精密跑步機，在原地上就能跑步。那麼光刻廠的方案就是造一個操場，也一樣能跑起來。
若將來有一天理論能變成實踐，中國光刻機將會死灰復燃，以另一種方式把芯片造出來。西方國家不提供高端先進的設備，甚至能否提供售后服務保證也充滿未知，這是要讓已購的光刻機變成「廢鐵」，而最好的解決方案就是自己掌握造芯片的能力。
這樣不論西方國家會作何限制，都能滿足自己的需求。到時候西方國家不賣光刻機才會真的感到著急，失去全球最大半導體消費市場的損失不是他們希望看見的。
有外媒表示：拜登心都碎了，美國費了這麼大的勁，想方設法拉攏隊友建立「高墻小院」，沒想到別人已經換道出發，不走西方規劃好的路了。
我們有龐大的消費市場，有豐富的產業鏈，有SSMB理論驗證基礎，相信在中國科研人員的努力下，會帶來想要的驚喜。
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