說起光刻機,大家最先想到的是誰,當然是ASML,這可是真正的巨無霸,全球唯一能夠生產EUV光刻機的廠商,另外在DUV等光刻機領域,也是霸主。
而除了ASML之外,日本還有尼康、佳能,中國大陸還有上海微電子,這三家企業相對于ASML,不管是技術水平,還是市場份額,確實低很多。
如下圖所示,這是三家廠商在光刻機領域領域的市場份額情況,ASML一家就獨占80%+份額。
但事實上,大家不知道的是,這里的份額,主要指的是前道光刻機。
光刻機其實分為兩種,一種是前道光刻機,用于芯片制造的光刻機,比如EUV、DUV這些,這一塊確實是ASML、尼康、佳能這三大廠商稱雄。
但還有一種叫做后道光刻機,用于芯片封裝的光刻機,這一種光刻機實現高性能的先進封裝,相對于前道芯片制造的光刻機而言,技術難度相對較小一些,但也是芯片制造過程中不可或缺的,這一塊,國產光刻機的力量可是很強大的。
近日,國產光刻機龍頭上海微電子的數據顯示,目前其后道封裝光刻機在全球市場的市占率為37%,在中國大陸市場的占有率高達85%,還有LED系列光刻機全球市占率55%。
去年的時候,上海微電子更是推出中國第一台2.5D/3D先進封裝光刻機,并且正式交付客戶,全球的封裝大廠,均大量采購了上海微電子的光刻機進行芯片封裝。
可見,雖然在前道光刻機領域,國產并不是特別給力,市場份額很少,但在后道光刻機領域,還是相當給力的,全球占三分之一,國內更是處于壟斷地位,并不遜色于其它光刻機巨頭,只是大家的賽道不同而已。
事實上,除了后道光刻機很強之外,從前道技術來看,上海微電子的光刻機,也并不是那麼的差,也是有一戰之力的。
如上圖所示,上海微電子與佳能,其實是一檔的,實現了ArF、KrF、i線、G線,工藝制程是90nm+,只要再進前一點,就可能達到ArFi,也就是浸潤式光刻機,那就相當于達到7nm了。
所以說,別小看了國產光刻機,它在后道這一塊,已經是全球巨頭了,在前道這一塊,起步晚,所以比ASML等差一些,但已經在追趕了,估計很快就會追上的。
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