眾所周知，在目前的芯片制造工藝中，當芯片進入5nm時，必須使用EUV光刻機，因為DUV光刻機，經過多重曝光之后，最多也就是達到7nm，不可能進入5nm。
而目前EUV光刻機，全球僅ASML一家能夠生產，并且美國不允許ASML賣到中國來，所以中國芯片產業，要進入5nm，必須突破EUV光刻機才行。
而傳統的光刻機，由光源系統、物鏡系統、工作台這幾大塊作成。其中EUV光刻機的光源系統、物鏡系統門檻非常高，基本上被美、歐企業壟斷的。
比如 德國光學公司蔡司（Zeiss）是物鏡系統的核心供應商，而美國的Cymer，德國的通快集團（TRUMPF）等就是EUV光刻機中光源系統的核心供應商，這些企業都是與ASML捆綁的，不會向中國提供EUV光刻機技術。
按照ASML的說法， EUV光刻機有超過10萬個零件，全球超過5000家供應商，而這些零部件供應商遍布全球。
在這樣的情況之下，中國要想突破制造出EUV光刻機來，要麼整合5000多這供應商，或者自己搞定全產業鏈，再造一個蔡司、一個 Cymer、一個TRUMPF等等，難度可想而知。
所以我們要造EUV光刻機，必須換道或繞道，必須另辟蹊徑才行，按照ASML的方式去走，肯定是走不通的。
這不，近日就有媒體報道稱，中國找到了新的EUV光刻機的道路，那就是集群方式。
我們不是去和ASML拼小型化，不是整合全球5000多家企業，搞一個EUV光刻機出來，而是采用大的 加速器光源，用分光器來帶動幾十台光刻機。
按照說法， 我們采用的是SSMB-EUV光源方案，這個加速器輸出功率>10KW，是ASML的40倍，然后我們也不是蔡司的物鏡系統。
而是采用分光器，相當于 建了一個光刻機工廠，然后同時生產出了幾十台光刻機一樣，用來滿足很多客戶同時作業需求。
當然，這個消息不知真假，業內人士表示，假的可能性居多，但也不失為一種辦法或嘗試，因為我們必須要突破EUV才行。
正如前面所言，目前在很多領域，我們真不能按照別人的路，或別人制定的規則去走，那可能是走不通的，必須按照我們的規則，利用自己的優勢，形成 適合自己資源稟賦的科技體系才行。
所以這種 SSMB-EUV光源方案，也許不一定行，但必須要去嘗試，萬一成功了呢？
