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國產EUV光刻機換道突破?采用集群式,繞開美國封鎖
2023/09/13

眾所周知,在目前的芯片制造工藝中,當芯片進入5nm時,必須使用EUV光刻機,因為DUV光刻機,經過多重曝光之后,最多也就是達到7nm,不可能進入5nm。

而目前EUV光刻機,全球僅ASML一家能夠生產,并且美國不允許ASML賣到中國來,所以中國芯片產業,要進入5nm,必須突破EUV光刻機才行。

而傳統的光刻機,由光源系統、物鏡系統、工作台這幾大塊作成。其中EUV光刻機的光源系統、物鏡系統門檻非常高,基本上被美、歐企業壟斷的。

比如 德國光學公司蔡司(Zeiss)是物鏡系統的核心供應商,而美國的Cymer,德國的通快集團(TRUMPF)等就是EUV光刻機中光源系統的核心供應商,這些企業都是與ASML捆綁的,不會向中國提供EUV光刻機技術。

按照ASML的說法, EUV光刻機有超過10萬個零件,全球超過5000家供應商,而這些零部件供應商遍布全球。

在這樣的情況之下,中國要想突破制造出EUV光刻機來,要麼整合5000多這供應商,或者自己搞定全產業鏈,再造一個蔡司、一個 Cymer、一個TRUMPF等等,難度可想而知。

所以我們要造EUV光刻機,必須換道或繞道,必須另辟蹊徑才行,按照ASML的方式去走,肯定是走不通的。

這不,近日就有媒體報道稱,中國找到了新的EUV光刻機的道路,那就是集群方式。

我們不是去和ASML拼小型化,不是整合全球5000多家企業,搞一個EUV光刻機出來,而是采用大的 加速器光源,用分光器來帶動幾十台光刻機。

按照說法, 我們采用的是SSMB-EUV光源方案,這個加速器輸出功率>10KW,是ASML的40倍,然后我們也不是蔡司的物鏡系統。

而是采用分光器,相當于 建了一個光刻機工廠,然后同時生產出了幾十台光刻機一樣,用來滿足很多客戶同時作業需求。

當然,這個消息不知真假,業內人士表示,假的可能性居多,但也不失為一種辦法或嘗試,因為我們必須要突破EUV才行。

正如前面所言,目前在很多領域,我們真不能按照別人的路,或別人制定的規則去走,那可能是走不通的,必須按照我們的規則,利用自己的優勢,形成 適合自己資源稟賦的科技體系才行。

所以這種 SSMB-EUV光源方案,也許不一定行,但必須要去嘗試,萬一成功了呢?

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